近日，在美国加利福尼亚州长滩市召开的第21届国际材料磨损大会（21^st International Conference on Wear of Materials (WOM), Long Beach, California, USA// 26-30 March 2017）上，公司钱林茂教授课题组博士生肖晨提交的题为“Threshold contact pressure for the material removal on monocrystalline silicon by SiO₂ microsphere”论文获得了大会颁发的最佳海报论文奖（Best Poster Award）。本次大会从720余篇论文中遴选6篇最佳论文（3篇海报论文，3篇口头报告论文），该论文是中国大陆地区唯一一篇获奖论文，也是中国大陆地区从1977年会议创办以来第一次获此殊荣。

钱林茂教授带队参加WOM 2017现场

       国际材料磨损大会是国际材料磨损领域内级别最高的学术会议，由世界著名出版集团爱思唯尔出版社和美国机械工程师协会联合举办，每两年举办一次，其投稿要求十分严格，论文淘汰率较高。会议接收的论文同时还发表在国际著名杂志《Wear》上，并进入SCI、EI、ISTP三大检索系统。第21届国际材料磨损大会是继1977年首次国际材料磨损大会后的40周年纪念大会，旨在促进全球关于材料磨损研究的交流与合作。

WOM 2017 最佳海报论文获奖证书

       钱林茂教授课题组长期致力于超精密表面加工和微纳结构制造等领域的研究工作，此次获奖论文涉及单晶硅表面摩擦化学去除机理。研究结果显示环境条件和对磨副表面的化学活性对单晶硅表面摩擦化学去除影响剧烈，其摩擦化学去除的临界能量阈值最低仅为机械去除的0.1%，该结果为超低压力下化学机械抛光提供了关键的理论支撑。